電鍍鉻液的管理方法

　　保證鉻槽溶液配比濃度正確、穩(wěn)定一致，是獲得結構緊湊的鍍鉻層、提高鉻層質量的重要環(huán)節(jié)。因此，首先要做到鉻液的各種化學成分純，且配比要精確。

　　1、鍍鉻溶液的成分

　　鍍鉻溶液的基本成分是鉻酐和硫酸，按鉻酐濃度可分為低、中、高濃度3種，凹版鍍鉻采用的都是中濃度鍍鉻液，即鉻酐濃度為180～250g/L的鍍液。鉻酐含量為250g/L、硫酸根含量為2.5g/L的鍍液稱為標準鍍鉻液，多用于鍍硬鉻。多數制版公司的鍍鉻液組成成分如下：

　?、巽t酐(CrO3)，含量為190～250g/L。

　?、诹蛩?H2SO4)，含量為1.9～2.5g/L。

　　鉻酐與硫酸的比值為：CrO3∶H2SO4=100∶1，實際生產條件不同，比值會在100∶(0.8～1.2)波動。

　　2、鍍鉻溶液的配制

　?、賹⒂嬎懔康你t酐放入槽中，加入總體積三分之二的去離子水，加熱至50～60℃，邊加熱邊攪拌溶液，然后稀釋至總體積。因工業(yè)用鉻酐含有0.4%左右的硫酸根，應取樣分析后，再添加化學純硫酸至工藝規(guī)范，攪拌均勻。

　　②在鍍鉻過程中，陰極反應如下：

　　2H++2e→H2↑

　　Cr2O7-2 +8H++6e→Cr2O3+4H2O

　　③配置鍍鉻液所用的鉻酐等原材料一定要純，每批材料要穩(wěn)定。有些公司由于原材料不純、不穩(wěn)定，出了問題很難找出原因。有的公司選用俄羅斯的鉻酐，純度較高;有的公司選用新疆產的鉻酐，質量也不錯。

　　鉻酐含硫酸量不同，會使硫酸的用量配比有出入，應掌握其規(guī)律。

　　3、生產注意事項

　?、僮⒁忏t酐濃度的影響

　　一般鍍液的鉻酐濃度在190～250g/L范圍內變化，隨著鉻酐濃度升高，鍍液導電率提高，覆蓋能力亦有提高，而陰極電流效率降低。加入某些添加劑后，濃度影響降到次要位置。

　　通常鍍液濃度可由比重法測定，鉻酐含量與波美度的關系如表3所示。

　?、谧⒁饬蛩釢舛鹊挠绊?/p>

　　在鍍鉻過程中，硫酸起著催化劑的作用，溶解堿式鉻酸鹽膠膜，使鉻能順利析出。硫酸濃度對鉻層質量影響很大，重要的是鉻酐和硫酸的比值，而不是硫酸的絕對含量。當Cro3/SO42-=100時，電流效率最高;當Cro3/SO42-=95(即H2SO4 含量略高)時，鉻層的光潔度和致密性好，但電流效率和覆蓋能力下降，版滾筒兩邊會發(fā)白;當Cro3/SO42- >100(即H2SO4略少)時，覆蓋能力較好，但鉻層的光潔度降低，出現發(fā)花、粗糙的現象。

　?、圩⒁馊齼r鉻的影響

　　鍍液要先通電處理產生一定量的三價鉻。一般制版公司陰極采用碳刷，陽極采用鉛銻合金條，有的采用鈦鉑合金，其鉻層結合力好。生產中，陽極與陰極面積比控制在2∶1或3∶2，可以保持三價鉻的穩(wěn)定。三價鉻含量低，采用大陰極小陽極電解;三價鉻含量高，則應增大陽極面積，減少陰極面積進行電解。在溫度為50～60℃時，用電流密度為5～10A/dm2的電流通電2～4小時，直至三價鉻達到工藝要求為止。在中濃度鍍液中，有的公司將三價鉻的含量規(guī)范為1～5g/L，有的為2～5g/L。

　　實踐表明，三價鉻含量低，鉻沉積速度慢，鍍層軟，覆蓋能力差;三價鉻含量高，鍍層發(fā)烏粗糙，光亮度差，光亮電流密度范圍變小。當三價鉻含量過高時，用細鐵棒做陰極，使陽極面積約為陰極面積的10～30倍，陽極電流密度為1.5～2A/dm2，直到三價鉻含量降低到規(guī)定范圍為止。

　?、墚a生三價鉻的兩種方法

　　a.電解處理法：在溫度為50～60℃時，用小電流(7～10A/dm2)裝廢版滾筒一根，鍍30小時，產生三價鉻離子。

　　b.化學處理法：有的公司是在溫度為50～60℃時，在1000L的主槽內加入適量甲醛(分析級、3000g)，循環(huán)半小時;有的公司是在1000L的主槽內加入適量過氧化氫(1000～1500g)。